產(chǎn)品分類PRODUCT CLASSIFICATION
-
光學儀器
- 孚約顯微鏡攝像頭相機
- 蔡司Axioscope 7光學顯微鏡
- 蔡司Stemi 508體視顯微鏡
- 奧林巴斯顯微鏡熒光裝置
- 相差顯微鏡
- 工業(yè)顯微鏡
- 材料顯微鏡
- 金相顯微鏡
- 偏光顯微鏡
- 奧林巴斯GX31P偏光顯微鏡
- 奧林巴斯GX41倒置顯微鏡
- 奧林巴斯GX71倒置顯微鏡
- 奧林巴斯GX51倒置顯微鏡
- 奧林巴斯BX41熒光顯微鏡
- 奧林巴斯BX51熒光顯微鏡
- 奧林巴斯CKX31倒置顯微鏡
- 奧林巴斯CKX41倒置顯微鏡
- Leica徠卡S9 E體視顯微鏡
- 徠卡DMi8倒置顯微鏡
- 尼康SMZ1270體視顯微鏡
- 奧林巴斯GX53倒置顯微鏡
- 奧林巴斯CX22生物顯微鏡
- 奧林巴斯BX53M金相顯微鏡
- Leica徠卡A60 F體視顯微鏡
- Leica徠卡M205 C體視型顯微鏡
- Leica徠卡M165 C體視顯微鏡
- Leica徠卡M50體視顯微鏡
- 奧林巴斯BX63生物顯微鏡
- 徠卡M125 C體視顯微鏡
- 徠卡DM2500生物顯微鏡
- 奧林巴斯IX83倒置顯微鏡
- 奧林巴斯顯微鏡鏡頭
- Nikon尼康SMZ25體視顯微鏡
- Nikon尼康LV100ND POL-DS偏光顯微鏡
- Nikon尼康LV100N POL生物顯微鏡
- Nikon尼康SMZ800N體式顯微鏡
- Nikon尼康SMZ1270體視顯微鏡
- 奧林巴斯SZX16體視顯微鏡
- 奧林巴斯SZX10體視顯微鏡
- 奧林巴斯SZX7體視顯微鏡
- 尼康TS2-FL倒置顯微鏡
- 徠卡DMi1倒置顯微鏡
- 徠卡DM3000生物顯微鏡
- 徠卡DM2000生物顯微鏡
- 徠卡DM1000生物顯微鏡
- 徠卡DM750生物顯微鏡
- 徠卡DM500生物顯微鏡
- 尼康E200生物顯微鏡
- 尼康SMZ745T體視顯微鏡
- 尼康SMZ745體視顯微鏡
- 尼康Si生物顯微鏡
- 尼康Ei生物顯微鏡
- 奧林巴斯IX73倒置顯微鏡
- 奧林巴斯SZ61體視顯微鏡
- 奧林巴斯SZ51體視顯微鏡
- 奧林巴斯BX53生物顯微鏡
- 奧林巴斯BX43生物顯微鏡
- 奧林巴斯CX43生物顯微鏡
- 顯微鏡
- 尼康Ts2倒置顯微鏡
- 奧林巴斯CKX53倒置顯微鏡
- 奧林巴斯CX33生物顯微鏡
- 奧林巴斯CX23生物顯微鏡
- 生物顯微鏡
- 體視顯微鏡
- 熒光顯微鏡
- 倒置顯微鏡
查看全部 >>
推薦產(chǎn)品Recommended products
相關文章Related articles
你的位置：首頁 > 產(chǎn)品展示 > 光學儀器 > 奧林巴斯GX53倒置顯微鏡 >olympus奧林巴斯evident儀景通體視顯微鏡
產(chǎn)品詳細頁
olympus奧林巴斯evident儀景通體視顯微鏡
簡要描述：olympus奧林巴斯evident儀景通體視顯微鏡材料檢查、測量與分析是滿足工業(yè)標準及內(nèi)部操作流程的**要求。GX53顯微鏡和奧林巴斯Stream軟件可為滿足各種行業(yè)標準要求的金相分析方法提供支持。用戶通過分布操作指導能夠輕松快捷完成樣品分析。
產(chǎn)品型號：GX53- 廠商性質(zhì)：代理商
- 更新時間：2023-09-20
- 訪 問 量：538
產(chǎn)品介紹
olympus奧林巴斯evident儀景通體視顯微鏡
材料檢查、測量與分析是滿足工業(yè)標準及內(nèi)部操作流程的**要求。GX53顯微鏡和奧林巴斯Stream軟件可為滿足各種行業(yè)標準要求的金相分析方法提供支持。用戶通過分布操作指導能夠輕松快捷完成樣品分析。
olympus奧林巴斯evident儀景通體視顯微鏡
GX53倒置顯微鏡廣泛應用 于鋼鐵、汽車、電子及其其他制造行業(yè)。用于只需將樣品倒扣放置在載物臺上即可檢測拋光金屬和切片樣品。樣品底部無需平整處理，并且尺寸可以較厚、較大、或者較重。
GX53能夠提供傳統(tǒng)顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像。在配合奧林巴斯 Stream圖像分析軟件使用情況下，該顯微鏡可讓從觀察到圖像分析及報告的檢測流程得到簡化。GX53顯微鏡的各種觀察功能可獲得清晰銳利的圖像，讓用戶能夠?qū)悠愤M行可靠的缺陷檢測。奧林巴斯Stream圖像分析軟件的新型照明技術(shù)和圖像采集方案可為用戶提供評估樣品和記錄研究結(jié)果的更多選擇。MIX技術(shù)將暗場與其他觀察方法（如明場或偏光）結(jié)合使用，獲得**的觀察圖像。MIX觀察能夠讓用戶觀察傳統(tǒng)顯微鏡難以觀察的樣品。甚至可以呈現(xiàn)樣品表面細微的高度差異。暗場觀察所用的環(huán)形LED照明設備的定向暗場功能可在特定時間內(nèi)照明一個或多個象限。這樣可以減少樣品光暈，對于顯示表面紋理非常有用。
